Fábrica de semi-condutores – ITT Chip – Unisinos


Descrição do Empreendimento: Edificação de 2 pavimentos composta por Área de Apoio (Facilities), Administração, àrea de Pesquisa (Sala Limpa) e Laboratórios.

Área Construída: 2.500m²

Regime de Contratação: Empreitada Global